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Double-Patterning的邪恶的双胞胎

解开SADP——第1部分

下面是我进入以极大的恐惧。得到本文……,你可以阅读它涉及更多的脑细胞滥用施加比我自己在我的整个大学生涯。好吧,不管怎么说,它的感觉。

我们将谈论double-patterning。是的,我知道,我们之前讨论过它,它并不是那么糟糕,是吗?啊,那是因为没有只有一个double-patterning:有两个女人。实际上有两个以上的,但大多数其他主要变异似乎没有找到进入生产,我们会忽略它们。拒绝做一个很棒的工具使用时正确的方式。

剩下的两粒,甚至有很多微小的变异,但是我们不会深入研究所有这些。因为这些小变体相比什么都不是这两种方法之间的主要区别。事实上,在试图弯曲我的大脑在这个东西,我现在相信,这些就像异卵双胞胎,一个是良性的,另一个是邪恶的。

我被引导通过这个人在导师的帮助下,大卫特别是,Abercrombie,幸好(而不是谦逊地)认为这些东西很令人头疼。如果他认为,我不觉得这样一个懦夫。

double-patterning我们之前看到的是双胞胎,这被称为“乐乐。”(这是明显的“艾莉elllie”,而不是“列城列城。“只是清楚。)代表“litho-etch;litho-etch。“换句话说,它只是两个标准光刻的步骤,一个接一个。暴露和蚀刻图案的一半;然后做一些。容易peasy。

问题是,当你调整第二个面具,你必须确保你对齐正待在前面罩。这种“叠加”挑战有足够多的人担心他们到地下室的笼子和邪恶的双胞胎友善。

和邪恶的双胞胎SADP。(就我个人而言,我已停止后d似乎更准确)。这代表“自对准double-patterning。”或“sidewall-assisted双模式。“看到了吗?即使是专业人士也不能叫它什么达成一致。

事情是这样的,这些东西不仅仅是理论上的。它不是你的友好邻居EDA公司可以抽象的工具,这样您就可以漫步在幸福的遗忘。如果你是一个芯片设计,这个可能会影响你和它如何影响你甚至不是一个完成交易;它还在讨论中。

所以我要做的就是把这个讨论分成两部分。在第1部分中,我将描述SADP是什么(或者至少一种变体),对比乐乐。将会有新的词汇。你带了卡片,对吧?在第2部分中,我们将看看“着色”意味着在SADP和一些EDA和设计的挑战是什么。

大约一年半前,我认为芯片设计的根本变化是面具看起来越来越不像它是什么你想模式到晶圆上。乐乐有点像,每个面具只包含的一些特性,但它不是一个大精神飞跃重叠。SADP,另一方面…是的…好了,我们将通过一个简单的例子,我会试着离开你乞讨,我们不经历任何困难。(如果我不成功,我就求求你不要让我重复它与任何困难。)

在我们潜水之前,顺便问一下,你知道,人们谈论的是三倍,四倍模式,对吧?据我所见,这些似乎类似于简单的品种,像LELELE三重模式。我相信一些施虐狂的地方试图梦难的方法,但我们不会去那里。(只要我们能避免它。)

快速回顾一下这个问题

为什么一遍,我们做这一切?因为我们想拉近特性比目前的193 nm液浸式光刻技术将允许。见鬼,所有权利,我们甚至不能做我们正在做的事情,但聪明的人比你和我(我)提出了诸如光学临近修正(OPC)和design-for-manufacturing (DfM),这实质上pre-distort面具的扭曲pre-distortions最后看起来像我们希望他们。这需要一些严重扭曲如何工作的理解。

但是我们的房间。我们真的需要的是一个短曝光波长,这样我们才能解决较小的特性,但这将是极端的紫外线的领域(EUV),…嗯…是的;我们都还在等待。所以我们需要把另一个技巧而失去套筒的EUV来活着。

技巧是双模式。这是最容易理解和乐乐。我将使用一个简单的例子来说明它,然后我们会继续的东西。

你们中那些读过我的东西一段时间可能已经注意到,我不使用大量的图形。好吧,今天的主题需要图形——很多。坦率地说,我发现通过强迫自己画自己的图形(而不是复制一些,比如从导师白皮书),我也强迫自己面对的东西我不懂,直到它有意义。所以我推荐这样做。

乐乐

乐乐在概念上很简单。你把你的功能分成两组。假设我们想要创建的形状如图1所示。问题是箭头显示,这两个东西太近是形成于单一曝光;他们违反了间距设计规则。

顺便说一下,我做了一件事,图是指两个顶部和侧面视图。很多double-patterning讨论给你只有一种或另一种,仿佛,给定一个,另一个是显而易见的。但是我没有发现的情况下,和显示都一起帮助我,所以我要做的,我认为这将帮助。

所以你看到的是明显的顶视图,然后侧面和底部我展示水平视图(尽管在旋转90°)。

Figure_1.png

图1所示。期望的功能

获得此模式使用乐乐,我们只是做一个功能在一个曝光,另在随后的一个。

Figure_2.png

图2。乐乐面具。

现在你可能会意识到,决定哪些特性会有并发症的面具和可能的“色彩冲突。“我们已经覆盖了之前,所以我不会深入探讨他们在这里。从概念上说,他们不是难以理解。

这就是我们要对乐乐说。

进了地牢

我摔跤和如何最好地攻击SADP话题,在概念上和我决定先显示它是如何工作的。在第2部分中,我们将方法从不同的角度:如何到达面具将产生所需的模式。在第一部分,我们将使用一个简单的——但有用的(例如,鳍)模式。在第2部分,我们将看看稍微复杂的模式。我不会做任何事情比,因为我坦白说讨厌清理我身后的墙,我的大脑后爆炸。

的概念是很重要的一部分,因为据我所知,这整件事已经由于一些聪明的人(s)算出如何利用这一现象,到那个时候,一直在考虑一个问题:胎侧。

这与当你表面涂一些黏性物质,如光刻胶或其他电影。如果表面不是平的,糊糊将符合起伏。当你删除它的攻击,当腐蚀,然后你有这些有趣的工件周围形成的步骤。记住步骤覆盖,当我们担心空洞吗?是的,是这样的,只有相反。

所以在图3中,你看到的绿色黏性物质沉积在两个粉红色的垂直特性,和层符合形状。排序的。

Figure_3.png

图3。黏性物质层的步骤。

如果我们从上面蚀刻,那么表面将被删除以同样的速度在——包括不连续的一步。如果我们腐蚀,删除所有层的平坦的部分,我们仍然会有一些角落中残留的黏性物质的一步。如果我们腐蚀就多一点,然后我们得到这个好sidewall-looking页面(图4)。而不是一个问题,这些都是有用的。(我不想代表了这些图纸有多准确;我只是试图穿越之前,样子差距蚀刻和侧壁他们通常绘制。)

Figure_4.png

图4。创建的轮胎。

现在我们可以删除中间的粉红色的部分,剩下三个差距比任何我们可以接触紧密。我们暴露了两个外部的,但中间的一个是由侧壁;我们已经有效地翻了一倍。

Figure_5.png

图5。侧壁间距的两倍。

一些词汇:粉色的东西我们排除了最后有一个特别的名字:芯棒。为什么?可能有一些不错的历史原因。我还没有发现它特别记忆的功能,但你拥有它。(也许有人阅读下面的历史和评论。* *)显然,芯棒必须不受井壁腐蚀,反之亦然。

这是它是如何工作的基本概念,但它可以应用两种不同的方式。为了更好地了解发生了什么,我们还需要看看顶视图的过程。所以我们假设我们要创建以下模式:

Figure_6.png

图6。想要的模式;中间特性不能暴露。

在这种情况下,让蓝色的硅材料。举例来说,这可能是三个FinFETs鳍。我中间有虚线所示,因为它不能与别人接触;太接近他们。外部特征,另一方面,可以暴露。我展示了顶部和侧面视图;我要只关注一个维度,所以我不会担心其他旋转侧面。

所以,设置这个,我们让两个芯棒:

Figure_7.png

图7。顶头沉积、暴露和蚀刻。

这涉及到将芯棒材料然后暴露腐蚀模式。(我还没有显示这些步骤,因为他们的标准。)对于你们中那些已经知道这个东西,我显示你实际上是不正确的,但它很容易想象。我还会回到这个问题。

现在我们可以把侧壁材料:

Figure_8.png

图8。侧壁材料沉积。

侧面看起来应该很熟悉,尽管现在我显示底层硅层。

现在我们沿着井壁腐蚀材料。我清楚这部分更详细地之前,这里是结果:

Figure_9.png

图9。后侧壁腐蚀。

现在我们可以把芯棒:

Figure_10.png

图10。顶头消失了;轮胎仍然存在。

现在你可以看到为什么侧面视图并不足够。从这个角度看,它看起来像我们做;我们可以使用的轮胎作为一个面具,传输模式下到硅。但从顶部看,你有这些侧壁戒指。现在什么?这是第二次曝光。

这可能是备份的好时机。我们在这里谈论double-patterning;乐乐很明显有两个风险敞口,但当我们看着SADP的基本理念是,只有一个风险:当我们放下顶头。听起来不像是双模式。

当然不是这么简单。现在我们需要清除胎侧不需要的,所以我们有第二个接触使用所谓的“块”或“修剪”面具。这是用来隔离只有感兴趣的领域。轮胎要保护底层硅的腐蚀。我们希望三鳍,但我们有四个轮胎。我们也不关心整个井壁环;我们想要的只有一个维度。我们创建一个块的面具出我们想要的东西。注意,这个面具可以容忍的登记错误,这就是为什么我们不首先:消除面具覆盖敏感性。

Figure_11.png

图11。“块”或“修剪”面具。

面具/光致抗蚀剂,我们胎侧腐蚀的其余部分,胎侧给我们三个,我们希望:

Figure_12.png

图12。最后侧壁配置。

我们现在可以腐蚀底层硅鳍。这也被称为“转移”模式由于井壁模式转移到底层硅。

Figure_13.png

图13。井壁模式转移到硅。

现在我们可以删除的轮胎,我们完成的结果。

Figure_14.png

图14。完成的硅。

现在…你们密切关注可能会注意到,我们最终的模式,这看起来不太像我想要的。这是在小转向左边。这就我之前提到的“错误”。直观的方法这是将芯棒,我们想要的功能,但没有花纹的顶头的特性;他们的轮胎花纹的,旁边的顶头。

这一棘手的SADP:决定把顶头,这样你最终得到你想要的模式。会的主题第2部分

但最后一个注意。你也可以反向的“语气”这一过程。而不是创建特性在侧壁,您可以创建他们的差距。这是用于蚀刻氧化金属填满。如果我们把上面的井壁模式创建,而是假设它是上覆氧化硅的,我们有以下:

Figure_15.png

图15。在氧化的轮胎。

现在我们腐蚀金属的氧化物创建战壕…(是的,我是懒惰和忽视这一事实远左和右的氧化物也会侵蚀如图所示…不相关讨论…)

Figure_16.png

图16。战壕蚀刻。

胎侧…然后删除…

Figure_17.png

图17。胎侧移除。

…和填充金属的战壕。

Figure_18.png

图18。战壕里满是金属。

在这种情况下,功能做与原图一致,虽然只有两人,而不是有三个(因为我重用其他例子没有回到一开始)。这再次到达的问题你如何决定什么地方。所以这个练习的主要目的是显示可以使用的轮胎或胎侧之间的差距来创建你的特性。

除此之外,我给你一周半左右的休息,然后我们将继续第2部分

*我只是回到了那篇文章,注意到的一个评论专门喊SADP作为另一个例子,我在那块没有提到。和…哦,我…我只是检查的评论者,大卫不是别人,Abercrombie。

从Dictionary.com * *:

男人·drel

名词机械

  1. 轴或酒吧是插入到年底在加工过程中工件来保存它。
  2. 一个主轴圆锯或砂轮旋转。
  3. 驱动轴的主轴承车床。

产地:

1510 - 20;也许类似法国细探针

基于书屋字典,©兰登书屋,2013年Inc .。

14对“Double-Patterning双面恶魔”的想法

  1. 好的开始布来安!你是一个好学生。把它像学习解决魔方。有足够的练习我确信我们将学习使它容易。你可以打赌,很多工作在幕后继续之前设计规则手册和EDA工具会交给一个设计师。我们尽力把尽可能多的困难的,但你可以让自己受教育程度越高,越快的学习曲线和更好的生产力。

  2. Look4me45,是的,它是。我只是用图3,它是简单,介绍的基本面发生了什么。图8显示了这个瀑布的一系列步骤(包括底层,我省略了简单的图3)。

  3. 广播:共处生物
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