与先进的光刻技术所涉及的所有美味我们使用图案精美小特性到晶圆上,偶尔我们回到一种蛮力的方法:nanoimprint光刻(零)。而不是刻意暴露模式到光刻胶上,我们只是按一个图案的死(PS这是一种死的复数”死了,“不是扣带回硅位”是谁的复数骰子”)的床moosh创建一个模式就像一个老式黑胶唱片。变硬的材料,我们很好。
虽然已经用于硬盘驱动器,我们也看过了结合DSA更激进的硬盘。但这是所有仍在研究的东西。
EVG最近宣布一个SmartNIL大批量生产的过程。所用的方法,尽管任何你想知道为什么他们在开始时使用紫外线EUV贴门没有理由吃醋。与EUV不同,你不需要一个仔细平行光束的紫外线。你可以洗澡晶片在不相干的紫外线。
最明显的问题,为什么我不能用这个吗?答案是,也许你可以!从目标技术的角度来看,你是好的。(从设计者的数量的角度来看,不是如此)。很容易回答这个问题,“这不能用来做什么的?“比”,它可以用于什么?”
更简单的问题的答案是,“晶体管。”有两个问题零先进的晶体管:大小和defectivity特性。
- 是的,据EVG杰拉尔德Kreindl,高级研究工作在约翰·罗杰斯的小组在伊利诺斯州实际上复制一个碳纳米管(CNT)使用的影响。(这很有趣因为问是一个3 d功能…)这一点,没有一个基本的极限尺寸。(好吧,但我不认为任何人都要复制一个夸克使用NIL)实际来说,SmartNIL是20 - 100 nm的特性(或更大)范围(更像40和在高容量)。例如,这将省去鳍。
- 另一个问题是defectivity:微流体通道中的一个轻微的故障不会造成任何痛苦。同样的故障在晶体管可能发送有价值的电子错误的方向。
所以如果晶体管,这留下什么呢?很多:光学、光子学、发光二极管、生物电子学…
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