而互补的电子束光刻(CEBL)提供了一个新的转折对电子提单可以工作到大批量生产,有一些其他公司积极追求电子技术。
KLA-Tencor技术称为REBL:反光电子束光刻技术。作为美国国防部高级研究计划局资助项目,数量高达106梁。有趣的是,快100倍的回报是吞吐量比单光束可以做什么,绝对sub-linear吞吐量提高。他们看到10通过晶圆/小时,接触层,金属和2片/小时。
与此同时,小公司在代尔夫特,映射器,正在13000 -梁机器可以做10单位晶圆/小时,可集群在数万100片/小时。
更多的信息在映射器网站。似乎没有信息对REBL KLA-Tencor的实际网站,但是你可以找到各种比特通过搜索“REBL解放军。”
