这是其中的一个主题在今年的学报平会议:是什么替代品极端的紫外线光刻技术吗?

这个问题是基于长期不满得到足够的EUV源能力是有用的。我们看了挑战和目标去年讨论,但在这种情况下最特别关注播放器的激光辅助放电等离子体(LDP)方法,老discharge-produced之间的一种混合等离子体(民进党)和laser-produced等离子体(垂直距离)的方法。

当最后我们研究在自民党的方法,播放器已经证明30 W和50到今年年底。即使那些大步骤,他们仍然缺乏所需的100 W要达到60片/小时的目标,将EUV范围大批量生产(HVM——是的,它都有自己的缩写)。

所以很多讨论方法相比基于的问题时——即使EUV会得到足够高的功率。事实证明,Cymer坐在一个宣布周四他们不能做,直到他们的论文,深入会议。虽然不是一个完整的游戏规则,它提供了一个可能的阻尼器的悲观情绪。

具体来说,他们宣布他们取得了50 W,今年他们可以生产。在实验室里,他们展示了158瓦。

让我们看看他们做什么,因为他们的技术是非常不同于我们之前看到的自民党。

简单地说,一个垂直距离源发射激光在锡滴。辐射的锡反应所需的EUV范围。艺术提供一个可靠的锡流滴和尽可能多的流。

有许多方面的垂直距离Cymer说优势时有助于效率。最简单的一个是“收集器。“这是一件事来生成EUV辐射;很另一个收集和交付到晶片。这个聚会叫做的结构,逻辑上不够,收集器。

对于垂直距离这样的设置,您可以想像得到,你有一个发光的液滴,球发出辐射。所以你可以创建一个收集器,它或多或少地围绕着滴,捕捉一大块发出的辐射,就像我们的视网膜光收集(没有反映和指导),和自己的盲点。

民进党和自民党,相比之下,没有点光源,所以他们最终需要更加复杂的同心体结构安排,根据Cymer,不仅捕获的光少,而且干扰光,很难冷静。

垂直距离的挑战之一是水滴的流,其中很多甚至可能不被激光击中。时间太近,一个液滴撞击可能会影响下一个液滴的反应。Cymer说他们间隔的水滴进一步,这样每一个人得到不受干扰。他们跑的速度50 - 60 kHz,这意味着每接触成千上万的液滴冲击。

创业一直是一个问题,由于喷嘴堵塞;他们已经改善,但是,一旦发生,他们继续流,即使不产生光。这是需求来源可以开火,没有启动。滴,花当机器不暴露晶片进行收集和重用。一年的操作将使用大约一公升的锡。

锡抨击时,它会去的地方。像收集器。这将创建一个维护的担忧,因为锡碎片云收集器的明确性,降低其有效性。但是没有人想要这台机器经常清理。

最小化Cymer使用的方法之一是氢室。这种创造的锡蒸汽反应锡氢化物,这是不稳定的。他们可以泵出来,减少(但不是消除)的锡量最终沉淀自己。

所有这一切都很好,但还有一个问题保持完整的能量被剥削的液滴。水滴30µm,然而,由于扩散限制,激光是100µm宽。三倍大的液滴,这意味着大量的激光的能量被浪费了。

他们发现他们可以应用激光pre-pulse,似乎我喜欢减少红眼闪光相机。pre-pulse,比主脉冲的能量越少,会使肿胀的液滴,使其更像是激光光束的大小。现在更多的激光束实际上是与锡交互,使EUV代更有效。

他们将能够船这个2^nd在2代的方法^nd今年一季度。和现有系统(5已经运到工厂)可以很容易地适应pre-pulse加法。

但是,提醒一下,所有的这一切让我们只有一半的目标100 W。更需要,带我们到另一个声明的一部分,在那里他们吹过去的100年在实验室里。有三个组件,他们获得更高的能量。一个是简单地产生更多的公司₂权力——一个更强大的“激光。“第二个涉及改善收集器。收集器的设计似乎出现在谈话;有很多重点(可以说)确保,你这么努力工作后生成EUV辐射,它不漏出不运送到晶片。

最后,在这种pre-pulse技术开发,他们计划通过精炼技术提高输出功率。

他们没有说,然而,当这158 - w技术将使它成为一个生产单位。所以当我们接近EUV作为一个可行的生产方案,我们仍然不太有个约会,那将是什么时候。我的猜测是,人们不会把他们的眼睛的替代品,直到日期是钉。

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