你可能会认为，一种完整的硅模版新技术值得一个冗长而复杂的故事。然而它并没有那么复杂。(说起来容易……)正在开发的一种很有前途的光刻工艺被称为“纳米压印光刻”(NIL)。可能很难想象这会起作用，但是，就像听起来的那样，它需要取一个母版“印章”，并将其压入液体抗蚀剂中。

然后用紫外线照射硬化抗蚀剂，释放母版。晶圆片上的图案可以指导进一步的标准加工。

最疯狂的是纳米尺度的特征可以用贴纸打印机。你可能会认为，液体可能很难符合模板中如此微小的空洞。您可能认为可能会出现的一些问题——比如模板删除后模式的某些部分会下降或崩溃——确实是正在研究和解决的问题。

目前，研究人员正在研究26nm领域(根据在SPIE Litho上的演示)，但他们正试图使用与HGST用于他们的芯片相同的工艺硬盘项目—从主模板创建工作模板。对于那些工作模板来说，质量仍然是一个挑战，这使得它最适合具有大规模重复特征的应用程序，这些应用程序可以为修复提供冗余。

日本印刷公司的发言人说，全面生产的目标是两年后。我们将继续追踪它……如果你拿到SPIE Litho会议记录，你可以在论文8680-2中找到更多。

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