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KLA-Tencor的新型十字线检查员

似乎IC设计和生产的任何方面都无法逃避所有事情变得越来越难的需求,需要更好的解决方案。今天我们来看看网线检查,特别是KLA-Tencor努力调整他们的Teron系统,最初用于掩模车间,以适应生产晶圆厂的需要。这个想法是,当新的网片进入工厂时,它们需要作为基本的QC步骤进行检查。而且,在300-600次左右的使用后,他们需要重新鉴定,以确保获得的缺陷不会降低模具产量。

一个实际的考虑是占地面积。网格的体积正在增加,例如,由于多重图案,它增加了某些层的网格数量。14nm的流线是20nm流线的两倍。没有人愿意增加更多的机器来处理额外的负载;晶圆厂经理宁愿增加目前分配给检验的“空间”的处理能力,给设备增加额外负担。

那么检查系统在寻找什么样的缺陷呢?有几个,但雾霾似乎是一个大的。雾霾代表化学物质的缓慢沉积-可能来自其他各种加工步骤-到十字线上。显然,最好的解决方案是消除雾霾的来源,在这方面已经取得了进展,但仍然存在一些问题——当然,现在更难发现了。

首先,它曾经在开阔的空间占主导地位,在那里更容易辨认。现在,它倾向于沿着特征的两侧聚集,使其更难被看到。此外,由于雾霾较少,您正在寻找比以前更小、更孤立的缺陷,而以前像云一样的集合将更加明显。光学接近校正(OPC)特性的存在使这变得更加困难,因为它们很难与缺陷区分开来。

其他需要寻找的东西包括构成实际图案的铬的证据,“迁移”——清洗后变窄或变平,以及简单的“脱落”缺陷,这些缺陷不会脱落。

那么你是如何找到这些东西的呢?有很多技巧,有些有用,有些已经没用了。最终,一种组合效果最好。

  • 可以使用简单的光学检测,但它必须是“光化的”-也就是说,使用与晶圆制模过程中使用的相同波长的光:193纳米。
  • 对于重复的模式,比较相同特性的相邻版本很有帮助。但这在今天不太有用,因为即使每个单元格的原始布局可能是相同的,OPC特征可能是不同的,所以在划线上的单元格不再相同。
  • 生产标线通常有多个骰子实例,因此比较标线上相邻的骰子是有用的。但对于尖端工艺来说,单片晶圆片更常见,因为它有多个不同的晶圆片,无法进行比较。所以这个技巧不再有用了。
  • 建模可以有所帮助。KLA-Tencor离线生成模型,并实时使用它们与实际看到的进行比较。
  • KLA-Tencor还使用了一种他们认为是其差异化优势之一的技术:“差异图像”。他们捕捉光是如何通过十字线传输和反射的图像。根据每一个,他们计算出另一个应该是什么样子。例如,从反射的图像中,他们计算出在没有任何缺陷的情况下,传输的图像会是什么样子。反之亦然。然后,他们可以从观察到的版本中减去计算的版本——计算传输的版本与观察到的传输的版本,以及反射的版本——并使用差异来查明缺陷。这是一个计算密集型的操作,给检查设备带来了沉重的负荷。

他们在刚刚发布的Teron SL650中内置的处理能力旨在处理高信噪比的检查复杂性,同时仍能适应所需处理的网格数量的增加。

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(图片由KLA-Tencor提供)

你可以在他们的网站上找到更多关于新系统的信息公告

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