加利福尼亚州圣罗莎,2022年10月18日
Keysight技术公司。领先的技术公司(NYSE:键),提供先进的设计和验证的解决方案来帮助加速创新连接和安全的世界,宣布三星代工采用了Keysight E4727B先进的低频噪声分析仪(A-LFNA)闪烁噪声的测量和分析(1 / f噪声)和随机电报噪声(研制的半导体器件。三星代工客户针对硅生产最先进的技术将获得流程设计工具(此后),包括最精确的仿真模型,基于A-LFNA数据,设计和验证的射频(RF)和模拟电路。
“准确的低频噪声测量和建模在此后的发展越来越重要,尤其是对于先进技术节点5 4和3纳米,”查尔斯·普罗特说产品管理主管在Keysight PathWave软件解决方案。“三星铸造使用我们A-LFNA使设计工程师与电路设计的最高质量此后取得初步的成功,减少投放市场的时间。”
Keysight E4727B A-LFNA是一个交钥匙解决方案,半导体器件的低频噪声的措施。的PathWave A-LFNA测量和编程软件是建立在PathWave WaferPro (WaferPro表达)测量平台。工程师管理和自动化的完整wafer-level设备描述工作流的测量系统是灵活的和可扩展的。接下来,工程师将从系统测量数据导入Keysight PathWave设备建模(IC-CAP)和PathWave模型构建器(MBP)软件提取设备此后发展模型,确保高度准确的射频和模拟低噪声电路设计和仿真。
三星提供优化的铸造铸造是最主要的半导体工厂的解决方案,其中包括最先进的工艺技术,验证IP、和设计服务解决方案。
“我们选择了Keysight E4727B A-LFNA改善我们的设备测量质量,效率,和可伸缩性小心技术评估后,“李Hyung金说,技术副总裁三星铸造。“Keysight的A-LFNA 100 mhz宽的频率带宽,使噪声测量在更高的频率。A-LFNA也飞速的测量速度相比上一代系统。没有快速的薄片上设备的自动测量,描述的过程将是一项非常累人的任务。A-LFNA高度准确、快速测量确保我们此后进入市场早,加快客户设计周期。”
更多信息在Keysight产品和完整的解决方案,访问E4727B A-LFNA,PathWave WaferPro (WaferPro表达),PathWave A-LFNA测量和编程,PathWave设备建模(IC-CAP),PathWave模型构建器(MBP)。
关于Keysight技术
Keysight提供先进的设计和验证的解决方案,帮助加速创新连接和安全的世界。Keysight奉献的速度和精度延伸到其中的见解和分析,把明天的技术在开发生命周期的产品更快进入市场,在设计仿真、样机验证,自动化软件测试、生产分析、和网络性能优化和可见性在企业,服务提供商和云环境。客户跨越全球通讯和工业生态系统,航空航天和国防、汽车、能源、半导体和一般电子产品市场。Keysight生成b在2021财政年度收入4.9美元。关于Keysight技术的更多信息(NYSE:键),访问我们www.keysight.com。
