我们已经讨论过光子学之前我们已经讨论过纳米压印光刻技术(NIL)之前．创建硅光子学特征需要掩模，这需要光刻，因此听到所有不同类型的光刻技术(包括NIL)正在为光子学进行探索可能并不令人惊讶。

这就是我在Semicon West与EV Group进行讨论的原因。但这根本不是故事的内容。这并不是关于硅的图案硅光子学-这是关于直接从各种其他非硅材料中构建光子学结构，使用压印作为直接模式化方法。

我不禁想到NIL，就好像它在印刷黑胶唱片。是黑色的。(除了一些新奇的。)即使是印刷胶，我记得在我辉煌的日子里看到的任何胶都明显不是透明的。所以把这些材料想象成光的管道是我的大脑所抗拒的。

但这显然是事实:许多可用于印迹的材料恰好是透明的(在合适的波长下)。因此，您可以在晶圆表面建立导管-不需要进一步蚀刻。

EVG指出，现在有许多高容量的NIL应用:

• 偏振器
• 从led中提取更多能量的模式
• 生物技术(他们不能具体说什么)
• 还有一个更大的，他们也不能具体谈论。

与此同时，他们还与乐提公司合作开展了一个所谓的INSPIRE项目，以进一步开发NIL的技术和应用。你可以在他们的公告．

(图片由EV Group提供)

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