显微镜没有得到太多的关注在通用技术媒体(尽管我们习惯看到很酷的照片通过扫描电子显微镜(sem),是否他们FinFET截面或线虫近距离)。

但在一个晶片生产线,你需要检查来确定,例如,一个面具是否有缺陷,可能导致产量损失。你可以看到使用不同的光波长等缺陷,但人在劳伦斯伯克利说,波长如何看起来有很大的差异。

所以逻辑建议,如果你正在寻找将影响的问题EUV暴露,那么你应该看看目标使用相同的光:EUV。所以他们已经宣布了一项项目开发他们称之为“世界上最先进的(EUV)显微镜下,“叫锋利(半导体High-NA光化性十字线审查项目…真的吗? ?)

恐怕这听起来没什么大不了的,它需要1½年和4.1美元。而且有许多技术挑战,平行的照相平版印刷的弟兄们(尽管至少他们没有发展大批量生产的EUV来源光子…)。大多数材料吸收EUV光,所以你不能使用玻璃镜片;你必须使用镜子。奇怪的是,镜片是“略超出一个人的头发,“高质量图像放大了2000倍。

更多细节的功能设计中可以找到他们释放…

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