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交流偏置麦克风

在今年的ISSCC上,我将通过一个ac偏向麦克风的提议和实现来完善我注意到的最后一件事。这是基于预测,传统直流方法的偏置电阻将进入荒谬的高领域-太兆赫甚至更高。

来自恩智浦和代尔夫特大学的团队列出了这导致的一系列问题。

足够近吗?

不久前,在我们的报道中3 d视觉,我们讨论了飞行时间作为测量距离的方法之一。尽管它和其他3D视觉技术都在追求低成本的应用,但在这一点上,我们很容易将它们视为正在进行中的奇异作品。

嗯,飞行时间现在被用于最平凡的职责:确保你的脸颊不会不小心挂掉。

当然,我们的手机……阅读更多→“足够接近?”

收获智能电表

智能电表代表了我们能源输送行业的重大基础设施变革。在一些地方进展顺利,在另一些地方则遇到了激烈的阻力。

  • 它的承诺是,我们将获得关于如何使用能源的更详细信息,使我们能够做出更明智的决定。
  • 灰色地带是,一旦一个完整的智能电网到位,电力公司实际上可以进来调整我们的能源使用。
  • 黑暗地带是能源公司通过出售个人数据赚钱,所以…阅读更多→“收获智能电表”

最糟糕的两个答案

你是一个正直的产品营销人员,你想要与客户和潜在客户验证公司的产品理念。所以你要走到他们前面(这并不容易——这时你要感谢你最好的销售人员,感谢他们的名片和关系……)

你坐在会议室里,微笑着,握手,喝着咖啡,推销你的产品。

你能问的最好的答案是,“太棒了!我现在就想要!我将资助开发……阅读更多→“最糟糕的两个答案”

重力泄漏

最近,我与Sensor Platforms的CTO Kevin Shaw进行了广泛的讨论。它起源于我脑子里一直在唠叨的事情,那就是只用加速度计可以做什么。早期对这个话题的思考激发了我的异想天开花样滑冰文章但我的好奇心并没有得到满足。

我的主要想法是,一般来说,你需要一个加速度计和陀螺仪来确定方向和方向,如果你在一个固定的……阅读更多→“引力泄漏”

干蚀刻边缘湿

最近有两项关于干式蚀刻系统的公告。现在,干蚀刻已经不是什么新鲜事了。虽然它比湿蚀刻技术更新,但湿蚀刻技术仍在使用。正如他们所说,这就是问题所在。

第一份公告是在1月底发布的,关于Memsstar的新系统。他们的重点是MEMS,特别是减少因摩擦而导致的屈服失效。这一举措有两个方面。

首先,他们指出,湿蚀刻过程必须随后清洗,以清除所有的蚀刻剂和产生的粗糙…阅读更多→“干蚀刻边缘湿”

20到14岁:没你想的那么糟?

传统智慧应该建议以下几点:

  • 每个新的流程节点都会影响所有层
  • 转移到finfet对设计师来说将是一个巨大的变化

结果,根据EDA人员(具体来说,是Mentor和Cadence)的说法,这两种说法都不正确。

16/14的后端(以下简称14,因为我很懒)——上层金属层等——将与20纳米相同。事实上,从这个角度来看,描述14纳米节点最简单的方法是用finfet来描述20纳米工艺,而不是…阅读更多→《20比14:没你想的那么糟?》

分离FBAR负载和温度影响

我们听说,在不远的将来,我们可以挥舞着像测谎仪一样的设备,检测空气中可能存在的各种物质。这种传感器的工作方式之一是有一个共振体:当物质吸附在表面时,它会改变质量,从而改变共振频率。

但问题是,温度也会影响频率,实际上很难从系统中校准。使用一个参考谐振器或复杂的软件算法是可能的,但是,根据…阅读更多→“分离FBAR负载和温度效应”

工具vs IP

所有主要的EDA公司都有知识产权。在IP还不是一个真正的概念之前,Synopsys就已经与DesignWare合作了;门拓拥有多年咨询相关知识产权;Cadence已经进行了几次收购——尤其是内存——以加强其内部知识产权的努力。

但是这些组织的早期产品通常是较低级的IP——特别是I/O协议。不需要费力阅读数百页复杂的协议规范是一件很有吸引力的事情——假设你愿意相信你的供应商会把它做好,或者你有某种方法……阅读更多→“工具vs IP”

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