高级节点模式的一个巨大挑战是粗糙。实际上有两种类型:线边粗糙度(LER)和线宽粗糙度(LWR)。几乎一样，但不完全一样。

第一个是通过观察一条线的边缘就可以看到的，除了“粗糙”之外，很难用任何其他词来描述这意味着什么。这不是很长的曲线(你可能不希望从掩码中得到，但可能会得到像定向自组装这样的东西)DSA）;它是非常小的颗粒状物质。如果你要提取边缘的频率内容，你会寻找高频模式，而不是低端。

LWR类似，但考虑到线的两边。每条边都有自己的粗糙度，但是，如果通过某种效果，两边都能精确地跟踪，当另一方向右或向左慢跑时，那么这条线的宽度将完全恒定。因此，即使边缘可能是粗糙的，在这种理想的情况下，也不会有LWR(阻抗也没有变化，尽管常数阻抗会受到粗糙边缘散射的影响)。

在实践中，左侧可能会向左慢跑，而右侧则向右慢跑，从而在线路中创建一个宽点(低阻抗)。反之亦然，压缩线(更高的阻抗)。这使直线变得粗糙。你可以把LER看成共模LWR看成微分模。是的，有一个数学定义;我们这里不需要它。

因此，很明显，你的线条变得越细，粗糙度(如果它保持不变)就会成为一个问题，因为与完美的偏差在线宽中所占的百分比越来越大。我在上面故意使用了“颗粒”这个词，因为是抗蚀剂的粒度导致了粗糙度。

标准的抗蚀剂是聚合物——某种物质的单体链。这里最小的单位是单体本身，打破它，你会得到一种不同的化学物质。据一家提供新型抗蚀剂的初创公司Inpria介绍，这些单体的长度在4到6纳米之间。这在10nm节点上的特征尺寸中占了不小的比例(尽管我们不应该从字面上理解这个10)。

为了使抗蚀剂平滑，需要更小的晶粒。这就是Inpria所提议的:基于金属氧化物的抗蚀剂。它们是在有机介质中输送的，但有机自然气体散去，只留下类似陶瓷而不是塑料的东西。晶粒尺寸在1nm左右。Inpria声称目前最小、最光滑的亚10纳米线。

它的硬度是另一个好处。很多时候，“硬面具”是通过用“硬”材料拍摄晶圆，然后用抗蚀剂进行图案制作而成的。这些金属氧化物电阻足够硬，可以充当它们自己的硬面具，省去了这些额外的步骤。

挑战仍然存在。剂量敏感性仍在优化中，尽管它显然比传统的抗药更好，因普利亚说，传统的抗药需要高剂量。任何减少所需剂量的措施都直接用于提高暴露通量，这是我们知道的最大剩余EUV障碍．(在这一点上，我不知道双重曝光是否骗术早些时候报道适用于这里……没有理由认为它会，因为化学性质不同。)

更有挑战性的，也许是减少缺陷。这是Inpria目前的主要业务。

我想现在宣布胜利还为时过早——这种基础产品的新材料和新供应商将受到晶圆厂经理的谨慎看待。你可以想象，如果把金属和它们的氧化物放在洁净室里，它们可能会造成严重破坏，所以这是一项令人信服的工作。但在这一点上，铪和锡是列表的顶部，具有良好的性能和良好的晶圆厂兼容性。

即使EUV结果被证明，我们也能看到进展。你可能会注意到ASML等公司的数据，在某些情况下，他们会同时显示常规抗药和Inpria抗药的结果。如果你想知道这是什么意思，好吧，现在你知道了。

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